半导体工业超纯水设备工艺流程介绍
发布时间：2022年07月26日 03时07分
半导体工业超纯水设备工艺流程介绍
众所周知，半导体工业对于纯水的水质要求是及其严格的，大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联， 因此无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。
今天来简单讲解一下关于半导体工业纯水设备工艺流程：
半导体工业纯水设备常采用的水处理工艺是电去离子EDI系统：
电去离子也就是常说的EDI，EDI系统采用的是一种离子交换技术，子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。
最新的水处理工艺流程(≥18MΩ.CM)：
原水预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象。
传统的水处理工艺流程(≥18MΩ.CM)：
原水预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象。
采用EDI系统制取纯水的优势有：
1、EDI净水设备具有连续出水;
2、设备在运行期间没有加入化学药剂，无需酸碱再生;
3、设备采用的是全自动的控制模式，因此可达到无人值守;
4、设备安装方便：EDI系统采用积木式结构，依据场地的高度和窨灵活地构造;
以上是整理的关于半导体工业纯水设备工艺流程讲解，如想了解关于半导体工业纯水设备水质为17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水质工艺流程可到瑞永源环保进行详细的资料查询
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